P純離子鍍膜機系列

        P純離子鍍膜機系列

        離子刻蝕機RIE


        RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機:系列設備為真空等離子刻蝕機屬于電子工業的干法清洗,工藝氣體在電子區域形成等離子體,并產生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面,等離子體在工件表面發生反應,從而實現清潔、改性、刻蝕的目的,最后將污染物轉換為氣相,并通過真空泵用連續氣體流將其排出。


        主要特點

        1、超低清洗溫度,滿足不同場合溫度要求,不對清洗產品造成溫度影響;

        2、旋轉裝置為行星旋轉機構、具鍍膜工藝不同,設計為:變頻調速,公轉式、公自轉結合式。采用氣動門鉸,自動鎖門,減少操作程序,增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性;

        3、高真空度真空腔體設計及制造工藝,配置進口真空泵(分子泵),用戶可據自己的需求,隨時升級為多功能鍍膜設備;

        4、設備采用原裝進口高壓激勵電路技術,產生高密度等離子體,確保出眾的清洗效果;

        5、放電技術:特殊處理及特殊結構的放電裝置,確保形成穩定均勻的等離子體;

        6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現邏輯全自動控制;

        7、報警及保護:全面安全防護包括:溫度安全防護功能、過載防護功能、短路斷路報警防護功能,各種誤操作保護功能。異常情況進行報警,并執行相應保護措施。



        技術優勢

        1、物質的微結構表面會粘附各種各樣的氣體分子、微小顆粒、氧化物雜質等,統稱為粘附物,這些粘附物屬于微觀粒子,宏觀的清洗方式不能清除它們;

        2、這些微觀粘附物會對納米級膜層產生諸多不利影響,影響膜層的結合力、清潔度、光澤、致密度等;

        3、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產生高能氬等離子體,轟擊被鍍工件表面;它不僅可以消除表面粘附物,還能“刻蝕”物質表面氧化物,從而得到“新鮮”物質表面,可以極大地提高薄膜的結合力,并提高膜層純度;

        4、離子束清洗工藝通常運行在膜層沉積之前。 清洗各種形狀復雜的產品,包括內孔內壁、均勻清洗;

        5、設計更緊湊合理、美觀;離子束更穩定;工作功率范圍更寬;清洗刻蝕效率更高;刻蝕均勻性更好;性能可靠,操作維修簡單方便;產品系列更完整;

        6、應用領域,可以為如下行業的鍍膜提供表面清洗預處理:3C消費電子、半導體、光學、 交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、軍工航天、科研等行業。


        設備參數

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