P純離子鍍膜機系列

        P純離子鍍膜機系列

        IONBEAM離子束清洗源


        IONBEAM離子束清洗源特征是:結構簡單,束流密度大,離子能量可控,在大面積改性處理方面具有獨特的優勢,離子束清洗源是在一條環形(長方形或圓形)窄縫中施加強磁場,于真空腔室內在陽極作用下使工藝氣體離化產生高能氬待離子體,并轟擊被鍍工件表面;它不僅可以消除工件表面粘附物,還能“刻蝕”工伯表面氧化物,從而得到“新鮮”的工件表面,極大地提高工件表面薄膜的結合力,并提高膜層純度。離子束清洗源可以做得很大很長,陽極層離子源電流也較大,但其離子流方向性強,且能級分布很寬,適用于大型工件,陽極層離子源還可以應用于離子束輔助沉積,工件表面刻蝕和表面清洗等領域。



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