P純離子鍍膜機系列

        P純離子鍍膜機系列

        PI純離子鍍膜機

        PIS210-2鍍膜機:腔體結構由裝載腔室+真空鍍膜工藝腔室組合而成;鍍膜工藝系統由純離子鍍膜(PIC)+離子束清洗(IONBEAM)組合而成。本設備為全自動設備。模塊化控制,操作簡單、維護方便,一鍵式操作即可完成多層鍍膜膜沉積,適合光學鏡頭模具等高端產品的鍍膜。

        主要特點

        1、腔體結構由一個裝載腔室和一個真空鍍膜工藝腔室組合而成;

        2、裝載腔室裝載的同時鍍膜工藝腔室同步進行抽真空,極大縮短了鍍膜前處理時間,提高工作效率;

        3、裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設計采用插板閥隔開,可以有效隔斷,穩定工藝氣體;

        4、傳動采用磁導向,保障傳動的穩定性。采用變頻調速電機驅動,運行速度可調節。



        技術優勢

        1、PIC配有高效的電磁掃描系統和過濾系統,離子束能量和方向可調,可將等離子體中的雜質顆粒、宏觀粒子、大型離子團等過濾干凈,經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%,并且可以過濾掉大顆粒,因此制出的納米薄膜非常致密且平整光滑,抗腐蝕性能好,與工件的結合力很強,在均勻性、致密性、結合度、硬度、摩擦系數、改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得里程碑式的突破;

        2、純離子鍍膜技術是低溫工藝,鍍膜過程可以控制在80?C以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產生高溫,因此可以應用于塑料、橡膠等產品;

        3、作為純離子鍍膜重要應用之一的類金剛石DLC鍍膜,膜層可以達到75%以上的(金剛石鍵)SP3鍵,其物理化學性質和金剛石極其類似,所以薄膜具有極高的硬度(>75GPa),極低的摩擦系數(<0.1),耐腐蝕性、光學透明度等一系列優異特征??蓪㈠兡ぜɑw)壽命延長7-10倍。



        設備參數

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